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激光直寫技術(shù)是一種無需掩模、適用面廣、性價比高的微納米加工手段，目前已經(jīng)廣泛應(yīng)用于微機(jī)電系統(tǒng)、掩模板、微流控、微納光學(xué)器件、超材料等微納米制造領(lǐng)域。隨著納米技術(shù)的飛速發(fā)展，器件和結(jié)構(gòu)變得越來越小，面對的場景也越來越復(fù)雜多樣。

目前比較常見的一種技術(shù)是基于數(shù)字微鏡器件( Digital Micromirror Device, DMD)的激光直寫技術(shù)，簡稱為數(shù)字光刻技術(shù)。此種激光直寫技術(shù)主要用于掩模制造和晶片直寫?；贒MD的無掩模數(shù)字光刻機(jī)采用DMD芯片作為“數(shù)字掩?！眮砣〈鷤鹘y(tǒng)投影光刻機(jī)的中間掩模版，通過透鏡微縮可將DMD中的每個近十微米級的鏡片反射光縮小到亞微米級光斑(也就是“像素”)并直接投影到基片上。

優(yōu)勢：

結(jié)構(gòu)緊湊-占地面積小

低成本-無掩模成本

快速使用-無需制備掩模版

易于設(shè)計-標(biāo)準(zhǔn)CAD格式的兼容性

三維圖形化-灰度光刻技術(shù)

應(yīng)用： 

光電半導(dǎo)體器件的開發(fā)

通信設(shè)備的開發(fā)

光固化材料的開發(fā)

MEMS微機(jī)電系統(tǒng)

生物、生命科學(xué)、復(fù)雜化學(xué)（微流控技術(shù)）

局部曝光和選擇性曝光的應(yīng)用，等等。

與E beam光刻技術(shù)的混合與匹配

工業(yè)領(lǐng)域(網(wǎng)紋和光罩生產(chǎn)、微模具、化合物半導(dǎo)體制造等)