產(chǎn)品名稱:接觸式DUV曝光裝置
品牌:LTJ
型號(hào):WEX-193MCE
關(guān)鍵詞:ArF、KrF、接觸曝光
一、簡(jiǎn)介
LTJ公司成立于1993年10月,提供光刻領(lǐng)域所需的技術(shù)和產(chǎn)品,為DUV光刻膠研發(fā)及驗(yàn)證提供低成本解決方案。WEX-193MCE是一款實(shí)驗(yàn)型接觸式ArF曝光裝置,并且可以拓展KrF光源。
二 、技術(shù)規(guī)格
基板尺寸:4寸
Mask尺寸:5寸
曝光載臺(tái)
光源:ArF 193nm(KrF 248nm可選)
CD解析度:200nm
三、應(yīng)用
適用于DUV光刻膠研發(fā)及驗(yàn)證。