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接觸式DUV曝光裝置

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接觸式DUV曝光裝置

產(chǎn)品時(shí)間:2023-03-13 14:13:58

簡(jiǎn)要描述:

產(chǎn)品名稱:接觸式DUV曝光裝置品牌:LTJ型號(hào):WEX-193MCE關(guān)鍵詞:ArF、KrF、接觸曝光一、簡(jiǎn)介 LTJ公司成立于1993年10月,提供光刻領(lǐng)域所需的技術(shù)和產(chǎn)品,為DUV光刻膠研發(fā)及驗(yàn)證提供低成本解決方案。WEX-193MCE是一款實(shí)驗(yàn)型接觸式ArF曝光裝置,并且可以拓展KrF光源。二、技術(shù)規(guī)格 &nb...

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品名稱:接觸式DUV曝光裝置

品牌:LTJ

型號(hào):WEX-193MCE

關(guān)鍵詞:ArF、KrF、接觸曝光

一、簡(jiǎn)介

      LTJ公司成立于1993年10月,提供光刻領(lǐng)域所需的技術(shù)和產(chǎn)品,為DUV光刻膠研發(fā)及驗(yàn)證提供低成本解決方案。WEX-193MCE是一款實(shí)驗(yàn)型接觸式ArF曝光裝置,并且可以拓展KrF光源。

 、技術(shù)規(guī)格

       基板尺寸:4寸

      Mask尺寸:5寸

      曝光載臺(tái)

      光源:ArF 193nm(KrF 248nm可選)

      CD解析度:200nm

三、應(yīng)用

      適用于DUV光刻膠研發(fā)及驗(yàn)證。



 


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