服務(wù)熱線
13651773242
產(chǎn)品名稱：無掩膜激光直寫系統(tǒng)
品牌：NSS (Nano System Solutions)
型號：DL-1000i
關(guān)鍵詞：激光直寫，無掩膜曝光，無掩膜光刻
一、簡介
日本Nano System Solutions公司成立于2004年12月，由國家先進(jìn)工業(yè)科學(xué)技術(shù)研究所支持。 該公司以獨(dú)特的光學(xué)技術(shù)為核心，最初是一家以研發(fā)為導(dǎo)向的企業(yè)，響應(yīng)超精細(xì)加工和測量等先進(jìn)特殊技術(shù)領(lǐng)域的需求。DL-series無掩膜激光直寫系統(tǒng)采用作為空間光調(diào)制器之一的數(shù)字微鏡裝置（Digital Micromirror Device：DMD）作為曝光圖案生成器，這是一種將DMD上放映的圖案數(shù)據(jù)縮小投影到光刻膠上的數(shù)字曝光裝置。因?yàn)榭梢灾苯虞斎肫毓庠陔娔X上制作的曝光圖案，所以可以自由地創(chuàng)建曝光模式。
二、技術(shù)規(guī)格
分辨率：0.5um分辨率（1um或2um分辨率可供選擇）
樣品尺寸：支持300mm*300mm(可向下兼容)
激光波長：365nm LED & 375nm LD
可用于3D結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)
| Model | DL-1000i | |||
| Application | For R&D | For R&D, High TP | ||
| Substrate size/ Exp.area | Size: ＜100mm ,＜200mm, ＜300mm, Thickness: 0.05mm-7mm | |||
| Wavelength | 365nm LED | 375nm LD | ||
| Minimum structure size | ＜0.5um | ＜1 um | ＜0.5um | ＜1 um |
| Writing speed（mm2 / min） | ＞200 | ＞500 | ＞400 | ＞1800 |
三、應(yīng)用
光刻掩模版，壓印模板加工
光電半導(dǎo)體器件的開發(fā)
通信設(shè)備的開發(fā)
光固化材料的開發(fā)
生物，生命科學(xué)，復(fù)雜化學(xué)（微TAS，微流控技術(shù)）
局部曝光和選擇性曝光
