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光譜橢偏儀

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橢偏儀 SE-VM

產(chǎn)品時間:2022-10-31 10:28:16

簡要描述:

SE-VM 是一款超高精度快速測量光譜橢偏儀,其采用自主研發(fā)的橢偏創(chuàng)新技術,具備 1 雙旋轉補償器同步控制技術,2 透明基底消背反技術 等領先技術??焖賹崿F(xiàn)光學參數(shù)薄膜和納米結構的表征分析,適用于薄膜材料的快速測量表征。支持多角度,...

詳細介紹

產(chǎn)品名稱:橢偏儀

品牌:頤光Eoptics

型號:SE-VM

關鍵詞標簽:橢偏儀、膜厚、n&k

一、簡介

SE-VM 是一款超高精度快速測量光譜橢偏儀,其采用自主研發(fā)的橢偏創(chuàng)新技術,具備 1 雙旋轉補償器同步控制技術,2 透明基底消背反技術 等領先技術。快速實現(xiàn)光學參數(shù)薄膜和納米結構的表征分析,適用于薄膜材料的快速測量表征。支持多角度,微光斑,可視化調(diào)平系統(tǒng)等高兼容性靈活配置,多功能模塊定制化設計。

SE-VM.png

二、技術規(guī)格

光譜范圍:380-1000nm(190-1650nm可擴展)

入射角:55/60/65/70/75°(斜入射,手動變角),90°(直通模式)

光斑大小:微光斑200μm

膜厚重復性測量精度:優(yōu)于0.01nm(100nm 硅基SiO2薄膜,30次,1σ)

折射率重復性測量精度:優(yōu)于0.0005(100nm 硅基SiO2薄膜,30次,1σ)

膜厚測量范圍:0.5nm-15μm

單點測量時間:0.5-5s

光源:高性能進口鹵素燈光源(工作壽命:2,000h)

樣品尺寸:最大支持樣件尺寸到Ф200mm

三、應用

廣泛應用于鍍膜工藝控制、tooling校正等測量應用,實現(xiàn)光學薄膜、納米結構的光學常數(shù)和幾何特征尺寸快速的表征分析。

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