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產品名稱：橢偏儀
品牌：頤光Eoptics
型號：SE-Mapping
關鍵詞標簽：橢偏儀、膜厚、n&k
一、簡介
SE-Mapping 光譜橢偏儀是一款可定制化Mapping繪制化測量光譜橢偏儀，采用行業(yè)前沿創(chuàng)新技術，配置全自動Mapping測量模塊，通過橢偏參數、 透射/反射率等參數的測量，快速實現薄膜全基片膜厚以及光學參數自定義繪制化測量表征分析。
二、技術規(guī)格
光譜范圍：380-1000nm（190-1650nm可擴展）
入射角：定角65°
光斑大?。何⒐獍?00μm
膜厚重復性測量精度：優(yōu)于0.01nm（100nm 硅基SiO2薄膜，30次，1σ）
折射率重復性測量精度：優(yōu)于0.0005（100nm 硅基SiO2薄膜，30次，1σ）
膜厚測量范圍：0.5nm-15μm
單點測量時間：0.5-5s
Mapping掃描測試時間：≤15min（8寸wafer采集49個測量點）
光源：高性能進口鹵素燈光源（工作壽命：2,000h）
樣品尺寸：可滿足4寸/6寸/8寸wafer掃描測試。（12寸可選）
三、應用
廣泛應用OLED，LED，光伏，集成電路等工業(yè)應用中,實現大尺寸全基片膜厚、光學常數以及膜厚分布快速測量與表征。
